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下一個天光
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作者
李政勳
作品編號
20180024
創作年代
2017
媒材
壓克力彩、畫布
尺寸
110 x 90 x 4.5 cm x 3p
預挑中
作品賞析
藝術家李政勳的作品〈下一個天光〉，將具象與的繪畫語彙與抽象藝術的觀念相結合。他以垂直線、水平線、曲線的排列交錯，藉由色彩、形狀、線條的結合，創造出更複雜的視覺總和，也代表著不斷疊加的情感厚度。在錯綜的畫面中，隱約顯現著一座和緩起伏的山形意象。右方留白的畫面，則是幾塊被填滿著山林肌理影像的幾何三角形，下方一條彎折的細線，劃開一塊不同地形的疆界。在這裡，「見山是山，見山不是山，見山依然是山」。作品自身以同一色調，不同形狀，產生可被無盡延伸想像的對話空間。
歷次展覽地點：
台中金典酒店1樓及12樓
新竹市科學園區展業一路26號
外交部5樓
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